鋁的氧化膜是怎樣生成的?
發(fā)布日期：2023-03-03
從硫酸溶液氧化時可以看到在陽極附近的溶液區(qū)域中，鋁離子的含量增加，同時有氧氣析出，有氧化膜形成，而陰極上析出氫氣，氧化膜的形成反映兩個步驟同時進行。即氧化膜的電化學成膜過程和化學溶解過程，當然，只有成膜速度大于膜的溶解速度，那么氧化膜的加厚生成才是可能的，由于鋁氧化膜的電阻很大，當它的厚度達到一定限度時，電阻就妨礙了陽極反應的繼續(xù)進行，電流就通不過了，這時，成膜速度等于零而溶解過程并沒有停止，所以就會出現(xiàn)已經(jīng)形成的氧化膜厚度趨向減薄。
陽極氧化過程的實質是H+與OH-的放電和接著進行新生態(tài)氧對鋁的氧化，形成A12O3。氧化開始時，陽極上很快地生成一層薄而細密的氧化膜(即緊貼金屬表面的無孔內(nèi)層)，電阻也大，在最初的幾秒鐘里就使電壓急劇升高，電壓升高導致氧化膜局部薄的地方“擊穿”。擊穿的地方膜的溶解加快，出現(xiàn)孔穴，并繼而延伸，為膜的進一步增厚提供條件，而且以孔為中心形成一個個六角形組成了氧化膜的外層。
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