(1)游離氰化鈉含量太低：銅的析出隨著游離氰化鈉的減少而更加容易，鍍層中銅的含量增加，當(dāng)溶液中的游離氰化鈉含量低到一定限度時(shí)，由于銅的沉積速度太快而造成鍍層粗糙，嚴(yán)重時(shí)會(huì)出現(xiàn)毛刺。 

        因游離氰化鈉含量過(guò)低引起的鍍層粗糙、毛刺的特征是：鍍層帶暗紅(溫度越低，電流越小，越帶暗紅)，嚴(yán)重時(shí)鍍層表面覆蓋一層褐黑色薄膜。鍍件無(wú)論電流大小部位，鍍層都呈粗糙或毛刺。鍍液深鍍能力下降，陽(yáng)極上呈淡青色或黑色，陽(yáng)極附近溶液呈淺藍(lán)色，陰極區(qū)氫氣泡少，鍍層經(jīng)受不了拋光，易露底，拋光后砂痕遮蓋不住。

    (2)銅的含量太高：隨著溶液中金屬銅離子含量的增加，銅的析出更加容易。當(dāng)銅的含量超過(guò)一定限度時(shí)，同游離氫氧化鈉太少時(shí)一樣，鍍層結(jié)晶組織變粗大，嚴(yán)重時(shí)有毛刺出現(xiàn)。

    因溶液中金屬銅含量太高造成的粗糙毛刺的特征與氰化鈉太少時(shí)相同，鍍液深鍍能力下降，但陽(yáng)極溶解正常。

    (3)游離氫氧化鈉量太高或太低：當(dāng)溶液中的游離氫氧化鈉含量太高時(shí)，錫酸根的離解濃度降低，錫的析出更加困難，鍍層中的錫含量下降，相對(duì)來(lái)講，使銅的析出更加容易。當(dāng)游離氫氧化鈉含量太低時(shí)，錫酸鹽發(fā)生水解反應(yīng)，生成偏錫酸沉淀物，這種沉淀物懸浮于溶液中，造成鍍件向上部位的粗糙毛刺。

    因溶液中游離氫氧化鈉過(guò)高引起的鍍層粗糙毛刺的特征是鍍層呈暗紅色(溫度越低，電流越小，越呈暗紅)，鍍件無(wú)論電流大小部位，鍍層都會(huì)粗糙或產(chǎn)生毛刺。鍍液的深鍍能力好，沉積速度顯得特別快，鍍層厚，難以拋亮，砂痕遮蓋不住。因游離氫氧化鈉過(guò)度引起的鍍層粗糙、毛刺的特征是粗糙發(fā)生在鍍件向上的面上，鍍液渾濁，合金陽(yáng)極或錫陽(yáng)極鈍化，附有黑膜覆蓋。

    (4)電流密度過(guò)大：隨著電流密度的增大，鍍層中的錫含量提高，結(jié)晶細(xì)致而光亮，但當(dāng)電流密度超過(guò)一定限度時(shí)，由于陰極附近嚴(yán)重缺乏金屬離子，在陰極尖端和凸出地方會(huì)產(chǎn)生樹(shù)枝狀的金屬鍍層。

    因電流密度過(guò)大引起的粗糙、毛刺多分布在鍍件的不同部位，鍍層含錫量增加，陰極區(qū)氫氣泡增多，陽(yáng)極板鈍化發(fā)黑，大量析氧。

    (5)二價(jià)錫含量過(guò)多：在四價(jià)錫鹽的鍍液中，總不可避免地存在一定含量的二價(jià)錫。由于二價(jià)錫在陰極析出比四價(jià)錫要容易得多，當(dāng)鍍液中超過(guò)一定含量的二價(jià)錫時(shí)，因二價(jià)錫在陰極沉積太快而引起鍍層粗糙、毛刺。

    因二價(jià)錫容易在陰極放電，使鍍層含錫量增高，鍍層一般情況下微帶灰色。鍍件無(wú)論電流大小部位都會(huì)出現(xiàn)粗糙、毛刺。合金陽(yáng)極或錫陽(yáng)極上呈灰白色，鍍層硬度增高，拋光后砂痕遮蓋不住。

    (6)鍍液渾濁：鍍液由于機(jī)械雜質(zhì)和其他懸浮物污染而渾濁，此時(shí)如進(jìn)行電鍍，這些細(xì)微顆粒狀物體就會(huì)落在鍍件上，夾雜在鍍層里，而造成鍍層粗糙、毛刺。

    因鍍液渾濁而造成的鍍層粗糙、毛刺多在鍍件向上的部位，但陽(yáng)極不發(fā)生鈍化。


（想查詢更多表面處理文章，您可以掃描下方二維碼點(diǎn)擊關(guān)注公眾號(hào)：易鍍，公眾號(hào)內(nèi)有更多詳細(xì)的表面處理文章，歡迎您的訂閱）
易鍍，十分專業(yè)的表面處理信息平臺(tái)，金屬表面處理/鎂合金蝕刻劑/鎂合金除油劑/鎂合金漂白劑/鎂合金轉(zhuǎn)化膜/環(huán)保鋁除灰劑/鋁三價(jià)鉻鈍化劑/低磷化學(xué)鎳/鋁中磷化學(xué)鎳/高磷化學(xué)鎳/銀光劑/銀保護(hù)等。
表面處理難題可咨詢：13600421922（程生）