如何維護,控制氰化鍍銀槽?
發(fā)布日期：2021-06-08
氰化鍍銀溶液是一種價格較高的電解液，在槽液的維護與控制上應養(yǎng)成良好的管理習慣。在正常工作情況下，氰化物鍍銀的陰極和陽極電流效率實際上都是100％，因此溶液中的金屬離子含量可保持長時間不變。又由于銀離子的電極電位較正，在電極反應過程中能優(yōu)先沉積出來，即使溶液中含有少量多電位較負的金屬雜質，對銀鍍層也不會產生嚴重影響，但是也不能忽視重金屬雜質及有機雜質的污染。Fe2+、Cu+、Pb2十等雜質的污染將造成疏松的鍍層并改變鍍層的物理性質，有機雜質的帶入將導致鍍層脆裂，甚至脫皮。
雖然氰化物鍍銀溶液比其他無氰鍍銀溶液穩(wěn)定，但在維護中也應注意以下幾點：
(1)各種銅及其合金零件掉人鍍槽時，應立即取出，以免污染槽液；
(2)復雜零件鍍銀時，應清洗干凈，不能互相夾帶各種溶液，進入鍍銀槽；
(3)陽極是無機雜質來源的一個重要方面，鍍陽極的純度應保持在99．97％以上；
(4)鍍銀工作完畢以后，鍍銀槽應加蓋，防止灰塵及其他雜質掉入槽內。
氰化鍍銀槽一般根據工作量的大小和鍍層的外觀來控制。通常引起槽液成分變化的主要原因是氰化物的分解、銀離子的消耗帶出和碳酸鹽的積聚。當銀離子過低時，容易產生樹枝狀的銀層，鍍層鈍化不亮。這時可適當補加銀離子，也可增加陽極板來調整補充。當鍍銀陽極溶解不正常時，應刷洗陽極、添加氰化物含量。當碳酸鹽超過90g／L時，會使鍍銀層結晶極為粗糙，銀層的抗蝕性能及抗變色能力變差，處理碳酸鹽可采用1.4g的氰化鋇沉淀1g碳酸鉀，由于氰化鋇試劑成本高，使用受到限制，目前多使用經濟、來源廣泛的氫氧化鈣代替。除掉1g的碳酸鋇只需0.5g的氫氧化鈣。在正常工作條件下，鍍層產生粗糙的原因是陽極溶解的固體粒子造成的，為此，鍍銀槽應定期過濾。為消除各種有機雜質的污染，偶爾加1g／L活性炭過濾處理也是控制鍍銀槽不可缺少的條件。
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