"隨著環(huán)保法規(guī)趨嚴(yán)與高端制造對(duì)鍍層性能要求的提升，鍍鉻工藝中三價(jià)鉻的精準(zhǔn)控制已成為行業(yè)技術(shù)升級(jí)的焦點(diǎn)。從六價(jià)鉻替代到三價(jià)鉻鍍液配方優(yōu)化，從人工經(jīng)驗(yàn)到在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，本文將講解三價(jià)鉻的升高，造成表面有麻點(diǎn)、發(fā)灰發(fā)白甚至粗糙鍍層的現(xiàn)象原因及解決措施。

      三價(jià)鉻是鍍鉻陰極表面生成膠體膜的主要成分之一。鍍鉻液中含有一定量的三價(jià)鉻能改善鍍液的均鍍能力，只有當(dāng)溶液中存在適量的三價(jià)鉻時(shí)才有可能獲得光亮理想鉻層；否則，鍍鉻就無(wú)法實(shí)現(xiàn)。

當(dāng)鍍液中三價(jià)鉻含量過(guò)高時(shí)(7g/L～l0g/L之間)，陰極表面會(huì)覆蓋一層由三價(jià)鉻和六價(jià)鉻組成的堿式鉻酸鉻黏膜層。而硫酸根對(duì)黏膜的溶解速度減慢，抑制了六價(jià)鉻在陰極的還原。若黏膜被溶解而露出基體，其金屬還原的實(shí)際電流密度會(huì)大于最佳區(qū)域所需的電流密度，從而造成表面有麻點(diǎn)、發(fā)灰發(fā)白甚至粗糙鍍層的現(xiàn)象。

當(dāng)三價(jià)鉻高達(dá)l0g/L以上時(shí)，溶液的電導(dǎo)下降，電阻增大，鍍液發(fā)黑而且深鍍能力及分散能力明顯變壞。

生產(chǎn)中三價(jià)鉻的升高大致有如下幾種原因：

(1)當(dāng)陰極面積大于陽(yáng)極面積時(shí)，三價(jià)鉻會(huì)逐漸增高。這是氧化反應(yīng)少于還原反應(yīng)的緣故。

(2)由于鉻酐是強(qiáng)氧化劑，凡落入鍍槽的拋光油膏及其他有機(jī)雜質(zhì)能被鉻酸氧化。六價(jià)鉻很快被還原為三價(jià)鉻。

(3)溶液中硫酸含量過(guò)高時(shí)，三價(jià)鉻則與之化合成Cr2(S04)3造成三價(jià)鉻在陽(yáng)極氧化的困難，也會(huì)使三價(jià)鉻聚集而增高。

(4)當(dāng)鍍液溫度過(guò)高時(shí)，膠體膜的生成速度下降，陰極區(qū)六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻的趨勢(shì)增加。

(5)當(dāng)溶液中鐵雜質(zhì)含量超過(guò)4g/L時(shí)，三價(jià)鉻就難以被氧化成六價(jià)鉻。

調(diào)整鍍液中三價(jià)鉻的含量，可采用下述方法:

(1)通電處理，在鍍液中鐵雜質(zhì)含量不高時(shí)，可采用通電處理使過(guò)多的三價(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻，陰極采用無(wú)銹蝕鐵板，陽(yáng)極面積5倍于陰極面積，使陽(yáng)極電流密度為1～2A/d㎡，溫度為50～60℃進(jìn)行通電處理。每降低lg三價(jià)鉻約需4A·h左右，可根據(jù)三價(jià)鉻含量處理至規(guī)范。

(2)用雙氧水氧化，當(dāng)鍍液中鐵含量較高、三價(jià)鉻不易在陽(yáng)極氧化時(shí)，可先用雙氧水氧化，再用電解處理的聯(lián)合操作；液溫不能超過(guò)45℃，事先需沉淀硫酸。操作中慢慢加入雙氧水防止過(guò)急引起鍍液外溢。

(3)稀釋法，即按計(jì)算量進(jìn)行稀釋調(diào)整。

為了防止三價(jià)鉻升高，杜絕油污及有機(jī)物污染鍍液，經(jīng)常注意調(diào)整陰陽(yáng)極的電流密度，使陰、陽(yáng)極面積比保持在2∶3之間是關(guān)鍵。

      以上便是三價(jià)鉻的升高，造成表面有麻點(diǎn)、發(fā)灰發(fā)白甚至粗糙鍍層的現(xiàn)象原因及解決措施。

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