在工業(yè)制造與裝飾領域，鍍鉻工藝，可以為金屬制品賦予獨特魅力與卓越性能。從汽車零部件的閃亮光澤到衛(wèi)浴產(chǎn)品的精致質感，鍍鉻的身影無處不在。那么，關于鍍鉻的基本知識。你了解多少呢？

      74.三價鉻對鍍鉻過程有什么影響?

      答:在鍍鉻過程中，由于鉻酐在陰極上還原，鍍鉻電解液在鍍鉻時產(chǎn)生三價鉻是不可避免的。新配制的鍍鉻液在開始電解時，其三價鉻濃度從零值逐漸增加，最后由于三價鉻在陽極上氧化而達到平衡。三價鉻是生成膠體膜的主要成分，但是也必須含量適當才能獲得質量良好的鉻層。三價鉻含量過高，生成的膠體膜很致密，獲得光澤鍍層的范圍縮小，得到的鍍層灰白和粗糙，和硫酸含量低或溫度低時所得到的鍍層相似，當三價鉻含量過低時，生成的膠體膜不連續(xù)，使鍍層不均勻，有的地方甚至沒有鍍層，和硫酸含量過高的現(xiàn)象一樣。在正常工作的鍍鉻電解液中，三價鉻濃度介于1～3克/升(以Cr2O3計)間。三價鉻的濃度決定于陽極電流密度與陰極電流密度之比，使這個比值等于0.5，也就是陽極面積比陰極面積大一倍。

      75.鍍鉻液中的三價鉻含量過高，應如何除去?

      答:要減少鍍鉻液中三價鉻的含量，必須在小的陰極表面和最大的陽極表面，用大的電流強度來進行電解，三價鉻在陽極上氧化至六價鉻具體的方法是:將溶液熱至80℃，以細的鐵棒作為陰極，陽極面積為陰極面積的十至數(shù)十倍，陽極電流密度為1.8～2A/d㎡。電解時間視三價鉻的含量多少而定，溫度越高，除三價鉻的效果越好。

      76.鍍鉻溶液中的金屬雜質對鍍鉻過程有何影響，如何處理?

      答:鍍鉻電解液中的金屬雜質常見的為鐵、銅、鋅等金屬離子。由于鍍鉻時鐵及銅件落入鍍槽，以及鍍件坑洼及內孔處鐵被溶解的結果，使鍍鉻液難免有鐵、銅等雜質存在。鐵的最高允許含量為8克/升，銅的最高允許含量為5克/升，鋅的最高允許含量為3克/升，含有大量鐵時的電解液的特征，是難于保持電流的穩(wěn)定性，電流不斷地變動，因此就不能確定鍍取光澤鉻層的工作規(guī)范。而且鐵的含量高時，同三價鉻的作用一樣，它降低電解液的電導，惡化分散能力，使鍍取光澤鉻層的工作范圍縮小，只是它的作用比三價鉻弱一些而已。除去鍍鉻電解液中的鐵雜質，遠不如除去三價鉻那樣容易。用化學法煩雜而且效率不高。當前有用強酸性陽離子交換樹脂除鐵的，其效果不錯。其它金屬雜質如銅、鋅、鎳、錫等也與鐵的影響相似。

      77.鍍鉻電解液中若含有氯離子，會產(chǎn)生什么樣的影響，如何除去?

      答:鍍鉻電解液中的氯離子來源于自來水含氯量過高或工件用鹽酸浸蝕后清洗不干凈所致，氯離子含量高于0.3～0.5克/升時，則溶液的電流效率和深鍍能力降低，鍍層發(fā)暗起花斑，針孔，抗蝕能力降低。氯離子的去除尚無好的辦法，可以采用電解處理，但很難徹底除去，所以應盡量避免帶入。為了防止氯離子的干擾，應注意鍍鉻電解液用水的水質，不要將大量的氯離子帶入鍍液，特別是枯水期海水倒灌時更要注意。鍍件入槽前應使用稀硫酸浸蝕，不要使用鹽酸。

      78.鍍鉻電解液的濃度及其特性、用途如何?

      答:鍍鉻電解液的濃度通常分為高、中、低三類，其特性與用途如下:低濃度電解液:鉻酐含量約在150克/升以下，它允許采用高的電流密度(60～70A/d㎡)電流效率高(16～18%)，分散能力比其他鍍鉻電解液高，鉻層硬度高，獲得光亮鍍層的溫度和電流密度范圍狹窄，電解液的帶出損失少。適用于外形簡單的零件鍍硬鉻。高濃度電解液:鉻酐含量約350克/升，允許采用較低的電流密度(15～25A/d㎡)，電流效率低(10～12%)，分散能力低，深鍍能力好，工作范圍寬，電解液穩(wěn)定，鍍層較軟，裂紋網(wǎng)不顯著。因鍍液濃度高，帶出損失較大。這類電解液適合于各種形狀零件的裝飾性鍍鉻。中等濃度電解液:鉻酐含量約250克/升，其特點介于高低濃度之間。例如采用中等的電流密度(25～50A/d㎡)，電流效率(13～15%)，分散能力中等，工作范圍寬，電解液成分穩(wěn)定，鍍層性能良好。適用于簡單和復雜形狀零件的裝飾性鍍鉻。以上三種濃度的電解液，以中等濃度電解液應用較普遍。

      79.氟硅酸根離子在鍍鉻電解液中有什么作用?

      答:氟硅酸根離子在鍍鉻過程中起著與硫酸根離子相類似的作用，除此之外，它還具有某些方面的特點。例如鉻層容易鈍化，在鍍鉻過程中因電流中斷或進行二次鍍鉻(不另加其它措施)時，所獲得的鍍層為乳白而無光澤。但是在有氟硅酸根離子存在下，它具有使鉻層表面活化的作用，當電流中斷或二次鍍鉻時，仍能獲得光亮的鉻層。又如小零件滾鍍鉻，如果在一般標準鍍鉻液內進行，就難于獲得光亮的鉻層，滾鍍鉻液內通常含有氟硅酸根就是這個道理。一般采用氟硅酸或氟硅酸鈉來提供氟硅酸根離子。氟硅酸根離子另一特點是能在低溫(18～25℃)低電流密度(2～2.5A/d㎡)下獲得光亮的鉻層。當溫度達45℃時，可獲得光亮鉻層的電流效率為19～21%，而在標準鍍鉻液中則為13%。含有氟硅酸根離子的電解液，隨著溫度上升，其工作范圍比含有硫酸根離子的電解液為寬。氟硅酸根離子的主要缺點是對工件、鍍槽、陽極的腐蝕性大，槽液維護要求高。當鍍液含有3克/升以上的鐵離子時，就會嚴重影響鉻層的光澤與鍍液的分散能力，降低工作范圍及電流效率。因此若以氟硅酸根離子完全代替硫酸根離子的鍍鉻電解液，由于上述的缺陷，不能長期很好地生產(chǎn)。而采用氟硅酸根和硫酸根離子配合的鍍鉻電解液，應用較廣。

      80.鍍鉻工藝過程有什么特點?

      答:鍍鉻過程除了與其它鍍種具有共同點外，還有其許多特殊的地方:①鍍鉻電解液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是具有強氧化性的鉻酸。②電流效率很低，一般為13～16%，最高只能達到23%左右，因而在鍍鉻過程中氫氣大量析出，帶出有毒液霧，需要有良好的吸風裝置和采用鉻霧抑制劑。③溶液中必須添加少量外加的陰離子，如SO42-、F-、SiF62-等，還要在電解液中維持一定量的三價鉻。④分散能力低，對于形狀比較復雜的零件，必須采用象形陽極、保護陰極等，才能得到良好的鍍層。⑤采用的電流密度很高，有時比一般鍍種的電流密度高幾十倍。鍍鉻過程的槽電壓也較高，常常需要采用12伏以上的電源，而其它鍍種用6伏的電源也就可以了。⑥溫度和電流密度的控制要求嚴格，兩者之間還要緊密配合。電流密度固定，溫度只能變動1～2℃，溫度固定，電流密度變動2～3A/d㎡。⑦鍍鉻所用陽極不是金屬鉻，而是采用鉛、鉛錫合金或鉛銻合金等不溶性陽極。⑧因鉻層容易鈍化，在一般情況下電鍍過程中不允許中途斷電。以上幾點，反映了鍍鉻生產(chǎn)中的一些特點，也就是它的特殊性。這種特殊性構成了鍍鉻過程區(qū)別于其它電鍍過程的特殊本質。但是，鍍鉻是電鍍的一個鍍種，它當然也具有電鍍的一般規(guī)律，我們應當從生產(chǎn)實踐出發(fā)，逐步地研究和了解鍍鉻的全過程，了解和掌握鍍鉻過程的特殊和普遍的規(guī)律，使其更好地為生產(chǎn)服務。

     關于鍍鉻的基本知識，你了解多少呢？通過掌握以上知識，我們可以更好的對其操作工藝有更好的了解，避免操作失誤過多，從而提高電鍍工藝的質量。

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