某電鍍廠在鍍一種有凹陷的工件時就鍍不上鉻，工件的形狀是100mm×100mm的平面中間部位有50mm×50mm×5mm的凹陷，經多次返修均未奏效。

    筆者在協(xié)助解決這一難題中采取了以下四點措施，問題得到有效解決。

    (1)拉大這一面陰、陽極之間的間距。拉大陰、陽極之間的間距之后，工件的平面部位和凹陷部位對陽極間距的比例縮小，從而也就縮小了對這一部位沉積難度的影響，使凹陷部位的電流分布處在最佳的電流分布狀態(tài)。

    (2)鍍鉻初期采取沖擊鍍的工藝方法。鍍硬鉻初期用比正常電流密度大1～2倍的電流密度對工件進行短時間的沖擊，可使工件表面獲得均勻的化學活性，在此基礎上能較快地先鍍上一薄層氫過電位較大的鉻層，從而繼續(xù)沉積鉻層比基體上直接沉積鉻容易多了。

    (3)工件呈30?！?5。仰角。工件呈一定的仰角有利于電流的分布和氣體的排放，從而改善了沉積條件。

    (4)增加一串工件中首件與液面的間距。一串工件中的首件與液面過近不利于電流的分布(原先工件與液面過近，首件質量明顯較差)，尤其是工件呈一定的仰角之后，對工件的中心部位影響更大。

    在接受類似上述任務時可根據凹陷的直徑、深度、部位、傾角，或弧度的圓角，采取以上一種或多種方法，甚至可以試驗后決定，如凹陷太小、太深還必須采用輔助陽極才能解決。

    在解決鍍鉻的覆蓋能力方面除上述種種在操作中需要注意的問題之外，下列各點又是保證覆蓋能力的重要因素。

    (1)工件之間的間距不可過近，要給予足夠的自由空間。

    (2)嚴防工件遭到污染和鈍化，鍍前需嚴格檢查，做好清潔、活化等工作。

    (3)嚴格掌握鍍液溫度，防備因溫度過高而影響鍍層的覆蓋能力。

    (4)控制好鍍鉻溶液中的硫酸濃度，硫酸濃度超過工藝規(guī)范時可用碳酸鋇除去，加入時可按2g碳酸鋇除去1g硫酸計算，加入時要充分攪拌。

    (5)掌握三價鉻含量，需要注意的是陽極面積不宜過大，否則三價鉻遭到快速氧化而難以積累。

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